牌号分类
GRADE PHYSICAL PROPERTY
- 规格用途
-
- 技术参数
-
| 性能项目 |
试验条件[状态] |
测试方法 |
测试数据 |
数据单位 |
| 物理性能 |
比重 |
|
ASTMD792,ISO1183 |
0.938 |
g/cm³ |
| 物理性能 |
熔流率（熔体流动速率）2(190°C/2.16kg) |
|
ASTMD1238,ISO1133 |
1.5 |
g/10min |
| 物理性能 |
共聚单体含量3 |
|
内部方法 |
9.7 |
% |
| 机械性能 |
抗张强度 |
屈服,模压成型4 |
ASTMD638 |
8.39 |
MPa |
| 机械性能 |
抗张强度 |
屈服,模压成型 |
ISO527-2/508 |
8.39 |
MPa |
| 机械性能 |
抗张强度 |
断裂,模压成型4 |
ASTMD638 |
22.5 |
MPa |
| 机械性能 |
抗张强度 |
断裂,模压成型 |
ISO527-2/508 |
22.5 |
MPa |
| 机械性能 |
伸长率 |
断裂,模压成型4 |
ASTMD638 |
640 |
% |
| 机械性能 |
伸长率 |
断裂,模压成型 |
ISO527-2/508 |
640 |
% |
| 薄膜 |
抗张强度 |
MD:屈服,51µm |
ASTMD882 |
11.8 |
MPa |
| 薄膜 |
抗张强度 |
TD:屈服,51µm |
ASTMD882 |
10.9 |
MPa |
| 薄膜 |
抗张强度 |
MD:屈服,51µm |
ISO527-3 |
11.8 |
MPa |
| 薄膜 |
抗张强度 |
TD:屈服,51µm |
ISO527-3 |
10.9 |
MPa |
| 薄膜 |
抗张强度 |
MD:断裂,51µm |
ASTMD882,ISO527-3 |
37.9 |
MPa |
| 薄膜 |
抗张强度 |
TD:断裂,51µm |
ASTMD882,ISO527-3 |
38.1 |
MPa |
| 薄膜 |
伸长率 |
MD:断裂,51µm |
ASTMD882,ISO527-3 |
400 |
% |
| 薄膜 |
伸长率 |
TD:断裂,51µm |
ASTMD882,ISO527-3 |
470 |
% |
| 薄膜 |
落锤冲击(51µm) |
|
ASTMD1709B,ISO7765-1/B |
580 |
g |
| 薄膜 |
埃尔曼多夫抗撕强度5 |
MD:51µm |
ASTMD1922 |
380 |
g |
| 薄膜 |
埃尔曼多夫抗撕强度5 |
TD:51µm |
ASTMD1922 |
510 |
g |
| 薄膜 |
埃尔曼多夫抗撕强度5 |
MD:51µm |
ISO6383-2 |
1700 |
N |
| 薄膜 |
埃尔曼多夫抗撕强度5 |
TD:51µm |
ISO6383-2 |
2300 |
N |
| 热性能 |
维卡软化温度 |
|
ASTMD1525,ISO306 |
81.1 |
°C |
| 热性能 |
溶融温度（DSC） |
|
内部方法 |
97.8 |
°C |
| 光学性能 |
光泽度(45°,50.8µm) |
|
ASTMD2457 |
65 |
|
| 光学性能 |
雾度 |
50.8µm |
ASTMD1003 |
5.8 |
% |
| 光学性能 |
雾度 |
50.8µm |
ISO14782 |
5.8 |
% |
